国家知识产权局信息显示，拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司取得一项名为“喷涂系统”的专利，授权公告号CN224389070U，申请日期为2025年7月。

专利摘要显示，本申请公开了一种喷涂系统，喷涂系统包括传输线和至少一个喷涂机构。传输线被配置为传送硅片。喷涂机构包括第一检测件和喷涂件。第一检测件被配置为拍摄传输线传送来的硅片，处理器被配置根据所述硅片的图像得到硅片参数，所述硅片参数不包括所述硅片的位置参数。喷涂件被配置为根据预设的硅片参数喷涂硅片。处理器还被配置为根据硅片参数确定喷涂参数。上述喷涂系统通过第一检测件在硅片喷涂前检测硅片，并通过处理器在喷涂前确定硅片的硅片参数，提高了喷涂件的喷涂可靠性，降低喷涂错误率。喷涂件根据硅片的硅片参数喷涂对应的硅片，实现了一个设备同时完成多种硅片制作涂层，提升了兼容性。

天眼查资料显示，拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司，成立于2019年，位于无锡市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本36000万人民币。通过天眼查大数据分析，拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司参与招投标项目14次，专利信息389条，此外企业还拥有行政许可55个。

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